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掃描電鏡/掃描電子顯微鏡

賽默飛化學分析儀器
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掃描電鏡/掃描電子顯微鏡

掃描電鏡/掃描電子顯微鏡

掃描電鏡/掃描電子顯微鏡是介于透射電鏡和光學顯微鏡之間的一種微觀形貌觀察手段,可直接利用樣品表面材料的物質性能進行微觀成像。主要是利用二次電子信號成像來觀察樣品的表面形態,即用極狹窄的電子束去掃描樣品,通過電子束與樣品的相互作用產生各種效應,其中主要是樣品的二次電子發射。 目前的掃描電鏡都配有X射線能譜儀裝置,這樣可以同時進行顯微組織形貌的觀察和微區成分分析。
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掃描電鏡/掃描電子顯微鏡產品列表
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日立高新AeroSurf1500 臺式掃描電鏡

日立高新AeroSurf1500 臺式掃描電鏡

  • 品牌: 日立
  • 型號: AeroSurf1500
  • 產地:日本
  • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

    產品簡介日立高新AeroSurf1500 臺式掃描電鏡2016年,日立高新公司推出第一臺大氣壓下掃描電子顯微鏡AeroSurf1500,其獨特的設計可在大氣壓下得到清晰的掃描電子圖像。產品特點1、可在大氣壓(105Pa)下得到SEM圖像;2、臺式掃描電鏡設計;3、低真空下成分分析;4、優質的圖像處理控制;應用領域1、食品檢測;2、生物科技;3、刑偵醫學;4、醫藥檢測;5、環境監測。

日立高分辨冷場發射掃描電鏡 SU9000

日立高分辨冷場發射掃描電鏡 SU9000

  • 品牌: 日立
  • 型號: SU9000
  • 產地:日本
  • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

    SU9000是世界上最高二次電子分辨率([email protected])和STEM分辨率([email protected])的掃描電鏡。它采取了獨特的真空系統和電子光學系統,不僅分辨率性能優異,而且作為冷場發射掃描電鏡甚至不需要傳統意義上的Flashing操作,可以快速穩定的進行超高分辨成像。?主要特點:1.  新型電子光學系統設計達到掃描電鏡世界最高分辨率:二次電子0.4nm(30KV),STEM 0.34nm(30KV)。2.  用改良的高真空性能和無與倫比的電子束穩定性來實現高效率截面觀察。3.  采用全新設計的Super E x B能量過濾技術,高效,靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。 應用領域:1.      半導體器件2.      高分子材料3.      納米材料4.      生命科學

【Hitachi】日立新型熱場發射掃描電鏡SU5000

【Hitachi】日立新型熱場發射掃描電鏡SU5000

  • 品牌: 日立
  • 型號: SU5000
  • 產地:日本
  • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

    產品介紹:  日立全新一代熱場發射掃描電鏡SU5000繼承了日立半導體行業掃描電鏡CD-SEM高穩定性和易操作的特點,不僅具有強大的觀察分析能力,同時具有全新的操作體驗。SU5000既滿足了專業電鏡操作者對高分辨觀察和分析的需求,也滿足了電鏡初學者對高質量圖片的需求,是一臺操作簡便且功能強大的掃描電鏡。主要特點:? 高穩定性熱場發射電子槍? 全新的EM Wizard軟件,無需設置參數即可獲得高質量圖片? 高分辨率和強大的分析能力? 樣品適用性強:不導電樣品直接觀察(低真空功能,10-300Pa)? 全新的multi-finder功能,方便快捷的尋找樣品? 附件功能強大:拉伸臺,冷熱臺,電子束曝光,紅外CCD,離子束清潔系統等。

SU3800鎢燈絲掃描電鏡

SU3800鎢燈絲掃描電鏡

  • 品牌: 日立
  • 型號: SU3800
  • 產地:日本
  • 供應商:上海西努光學科技有限公司

    日立全新一代高分辨鎢燈絲掃描電鏡SU3800采用全新的HexBias偏壓技術,使其低電壓性能大大提升,同時升級的高靈敏度背散射探測器和可變壓力探測器使得SU3800的觀察能力進一步提升。SU3800還增加了IFT燈絲監控技術、全新的光鏡導航、集成的能譜以及報告導出等功能,使其操作也變得更為簡單。主要特點:  HexBias偏壓鎢燈絲電子槍;  優異的高、低電壓性能; 高靈敏度五分割背散射電子探測器;  可變壓力二次電子探測器(高、低真空可用);  全新的操作界面和光鏡導航功能;  全自動燈絲設定和合軸;  報告導出和圖片處理;  可集成的EDS;  簡單方便的維護(燈絲更換視頻); 應用領域: 材料科學、生命醫學、食品衛生、半導體電子元器件、汽車制造等。主要參數:?電子槍預對中鎢燈絲加速電壓0.3kV – 30kV分辨率[email protected] (SE)[email protected] (SE)[email protected] (BSE, LV)放大倍率5x – 300,000x(底片倍率)7x – 800,000x(顯示器倍率)探測器二次電子探測器,高靈敏度無分割背散射電子探測器可變壓力探測器UVD 2.0*低真空可變壓力范圍6 – 650Pa樣品臺(三軸馬達)X: 0 - 100 mmY: 0 – 40 mmZ: 5 – 65 mmR: 0 – 360°T: -20° - +90°*選配

JCM-7000 NeoScope? 臺式掃描電子顯微鏡

JCM-7000 NeoScope? 臺式掃描電子顯微鏡

  • 品牌: 日本電子
  • 型號: JCM-7000 NeoScope?
  • 產地:日本
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    1. 只要放大光學像就能觀察SEM像的Zeromag功能; 2. 即使不切換到EDS模式也能知道圖片視野中的元素的Live analysis功能。

JSM-IT200 InTouchScope 掃描電子顯微鏡

JSM-IT200 InTouchScope 掃描電子顯微鏡

  • 品牌: 日本電子
  • 型號: JSM-IT200 InTouchScope
  • 產地:日本
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    1. 只要放大光學像就能觀察SEM像的Zeromag功能; 2. 即使不切換到EDS模式也能知道圖片視野中的元素的Live analysis功能。

JSM-7610FPlus 熱場發射掃描電子顯微鏡

JSM-7610FPlus 熱場發射掃描電子顯微鏡

  • 品牌: 日本電子
  • 型號: JSM-7610FPlus
  • 產地:日本
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    JSM-7610FPlus 熱場發射掃描電子顯微鏡,實現了分辨率15kV 0.8nm、1kV 1.0nm的進一步提升,采用半浸沒式物鏡和High Power Optics照明系統,提供穩定的高空間分辨率觀察和分析。

JSM-IT500HR 掃描電子顯微鏡

JSM-IT500HR 掃描電子顯微鏡

  • 品牌: 日本電子
  • 型號: JSM-IT500HR
  • 產地:日本
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    日本JEOL JSM-IT500HR 掃描電子顯微鏡,采用了新開發的高亮度電子槍和透鏡系統,因而能獲得令人驚嘆的高畫質圖像。即使對實時圖像,也能輕松地在CCD圖像上從尋找視野迅速過渡到高倍率(×100,000)觀察。

JSM-7900F 熱場發射掃描電子顯微鏡

JSM-7900F 熱場發射掃描電子顯微鏡

  • 品牌: 日本電子
  • 型號: JSM-7900F
  • 產地:日本
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    JSM-7900F 熱場發射掃描電子顯微鏡,它繼承了上一代廣獲好評的性能如極高的空間分辨率、高穩定性、多種功能等的同時,操作性能極大簡單化。該設備不依賴操作者的技能,始終能夠發揮其zui佳性能。

Serial Block-face SEM 3View 發射掃描電子顯微鏡

Serial Block-face SEM 3View 發射掃描電子顯微鏡

  • 品牌: 日本電子
  • 型號: Serial Block-face SEM 3View
  • 產地:日本
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    Serial Block-face SEM 3View 發射掃描電子顯微鏡,肖特基場發射掃描電子顯微鏡能長時間穩定地提供高電流下的微細探針,與3View?2XP(Gatan公司制造)結合使用,能對樣品進行自動切割,自動獲取圖像。通過對獲得的圖像進行三維重構,可以對精細結構進行三維分析。

JSM-IT500 掃描電子顯微鏡

JSM-IT500 掃描電子顯微鏡

  • 品牌: 日本電子
  • 型號: JSM-IT500
  • 產地:日本
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    日本JEOL JSM-IT500 掃描電子顯微鏡,是JEOL InTouchScope系列的新機型。 從設定視野到生成報告,用于分析的軟件整合于一體,加快了作業速度!是一款無縫操作,使用更加方便的掃描電子顯微鏡。

JSM-7200F 熱場發射掃描電子顯微鏡

JSM-7200F 熱場發射掃描電子顯微鏡

  • 品牌: 日本電子
  • 型號: JSM-7200F
  • 產地:日本
  • 供應商:深圳市藍星宇電子科技有限公司

    JSM-7200F 熱場發射掃描電子顯微鏡,應用了日本電子旗艦機-JSM-7800F Prime采用的浸沒式肖特基電子槍技術,標配了TTLS系統(Through-The-Lens System),因此無論是在高/低加速電壓下,空間分辨率都比傳統機型有了很大的提升。

【Hitachi】日立高性能鎢燈絲掃描電鏡SU3500

【Hitachi】日立高性能鎢燈絲掃描電鏡SU3500

  • 品牌: 日立
  • 型號: SU3500
  • 產地:日本
  • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

    高畫質的鎢燈絲掃描電鏡, 圖象質量更進一步。通過高畫質提升掃描電鏡的分析能力和操作性, 凝聚日立最先進科技“獨具匠心”。SU3500鎢燈絲掃描電鏡具有實現了“3kV加速電壓7nm分辨率”的全新電子光學系統, 可實現實時立體成像的“實時立體觀察功能”*1, 以及更高檢測效率的 “UVD超高靈敏度可變壓力檢測器”*1。它為觀察和分析提出了嶄新的標準。*1:自選特點低加速電壓觀察時分辨率更高,可更好地觀察樣品最表面的細微形狀和更有效地降低樣品的損壞全新設計的電子光學系統和信號處理技術實現了高速掃描和低噪音的觀察和以前的常規掃描電子顯微鏡相比*2,自動功能縮短*3了大約11秒具有在低真空時可以非常好地觀察樣品最表面的細微形狀的“UVD(超高靈敏度可變壓力探測器)”*4具有實現了實時立體成像的“實時立體觀察功能”*4(*2):和日立SEM S-3400N相比(*3):根據觀察條件的不同,時間會有變動(*4):自選規格項目描述二次電子分辨率3.0nm(加速電壓=30kV,WD=5mm高真空模式)7.0nm(加速電壓=3kV,WD=5mm高真空模式)背散射電子分辨率4.0nm(加速電壓=30kV,WD=5mm低真空模式)10.0nm(加速電壓=5kV,WD=5mm高真空模式)放大倍率5 - 300,000倍(底片倍率*5)7 - 800,000倍(顯示器顯示倍率*6)加速電壓0.3 - 30kV可變壓力范圍6 - 650Pa最大樣品尺寸直徑 200mm樣品臺X0 - 100mmY0 - 50mmZ5 - 65mmR360°T-20° - 90°可觀察區域直徑 130mm (旋轉并用)最大樣品高度80mm(WD=10mm)馬達臺5軸標配電子光學系統電子槍預對中的鎢燈絲物鏡光闌4孔可動光闌探檢測器埃弗哈特 索恩利 二次電子探測器高靈敏度半導體背散射電子檢測器EDX分析 WD10mm(取出角35°)圖像顯示操作系統Windows7*7(如有更改,恕不另行通知)圖像顯示模式全屏模式(1,280 × 960 像素)小屏模式(800 × 600 像素)雙圖像顯示(800 × 600 像素)四屏幕顯示(640 × 480像素)信號混合模式排氣系統操作全自動排氣渦輪分子泵210升/秒 × 1機械泵135L/min(162L/min,60Hz)× 1(*2):以127mm×95mm(圖像尺寸4"×5")的顯示尺寸規定倍率(*3):以345mm×259mm(像素1,280×960)的顯示尺寸規定倍率(*4):Windows是微軟公司在美國和其他國家的注冊商標

FEI “Quanta FEG系列” 場發射環境掃描電子顯微鏡”

FEI “Quanta FEG系列” 場發射環境掃描電子顯微鏡”

  • 品牌: 美國FEI
  • 型號: Quanta 250FEG/450FEG/650FEG
  • 產地:美國
  • 供應商:廣州貝拓科學技術有限公司

    儀器簡介:QuantaFEG系列場發射環境掃描電子顯微鏡是FEI公司的最新產品之一。是在FEI公司著名產品XL30ESEM-FEG場發射環境掃描電子顯微鏡的基礎上發展而來的。QuantaFEG場發射環境掃描電子顯微鏡綜合場發射電鏡高分辨和ESEM環境掃描電鏡適合樣品多樣性的優勢,可對各種各樣的樣品(包括導電樣品、不導電樣品、含水含油樣品、加熱樣品等等)進行高分辨的靜態和動態觀察和分析。QuantaFEG和Quanta一樣具有優異的系統擴展性能,可同時安裝能譜儀、波譜儀、EBSP、陰極熒光等附件。主要特點:1.完全數字化系統控制,Windows XP操作系統2.場發射環境掃描系統兼顧高分辨和樣品多樣性3.數字電影功能可將觀察過程記錄為avi視頻文件4.穩定的大束流(最大200nA)確保高速、準確的能譜、波譜和EBSD分析5.可安裝冷臺、加熱臺、拉伸臺等進行樣品原位、動態觀察和分析技術參數:1.分辨率: 二次電子:  高真空模式 1.0nm @ 30kV; 3.0nm @ 1kV  高真空減速模式 2.3nm @ 1kV, 3.1nm @ 200V (可選項)  低真空模式 1.4nm @ 30kV; 3.0nm @ 3kV  環境真空模式 1.4nm @ 30kV 背散射電子:  高真空和低真空模式: 2.5nm @ 30kV 掃描透射STEM探測器:  0.8nm @ 30kV2.加速電壓 200V ~ 30kV, 連續可調3.高穩定性Schottky場發射電子槍4.最大束流 200nA5.樣品室壓力最高達4000Pa6.樣品臺移動范圍 Quanta 250 FEG: X=Y=50mm Quanta 450 FEG: X=Y=100mm Quanta 650 FEG: X=Y=150mm

FEI “Q系列”掃描電子顯微鏡

FEI “Q系列”掃描電子顯微鏡

  • 品牌: 美國FEI
  • 型號: Q25/Q45
  • 產地:美國
  • 供應商:廣州貝拓科學技術有限公司

    對于失效分析、質量控制和材料表征而言、Q25是最經濟、最高效的高分辨成像和分析應用的解決方案。在設計上側重易用性、Q25可以讓用戶迅速得到他們所需的數據。為應對不導電樣品、Q25提供了低真空模式下的高性能、消除了對專用的樣品制備步驟或者附加的樣品鍍膜儀的需求。Q25樣品室的設計和真空系統能夠快速更換樣品、允許日常高效、快速檢測樣品。為滿足客戶對大樣品或塊狀樣品的要求、Q45提供了更大的真空樣品室和100mm的樣品臺行程。另外、Q45加上了環境掃描(ESEM)模式、擴展了SEM的成像和分析功能到加熱、含水或放氣的樣品。? 簡單易用,即使是新手利用直觀的軟件可實現高效操作。? 利用穩定的高束流(上至2 μA)電子束可以迅速獲得精確的分析結果。?快速輕松表征導電和非導電樣品? 支持可選的分析功能。利用獨有的多級穿過透鏡的真空系統在高真空和低真空下使導電樣品和不導電樣品的精確EDS分析成為可能。? Q45 SEM: 采用為ESEM選配的帕爾貼冷臺可在樣品的自然含水狀態下完成樣品的動態原位分析。分辨率加速電壓探針電流 樣品臺放大率試件室尺寸Q25 SEMHigh vacuum3.0 nm at 30 kV (SE)4.0 nm at 30 kV (BSE)*8.0 nm at 3 kV (SE)Low vacuum3.0 nm at 30 kV (SE)4.0 nm at 30k V (BSE)*10 nm at 3 kV (SE)*optional200 V - 30 kVup to 2 μA, continuously adjusted13 to 1000000x284 mm size left to rightQ45 SEMHigh vacuum3.0 nm at 30 kV (SE)4.0 nm at 30 kV (BSE)*8.0 nm at 3 kV (SE)High vacuum with beam deceleration option 7.0 nm at 3 kV(BD mode* + vCD*)Low vacuum3.0 nm at 30 kV (SE)4.0 nm at 30k V (BSE)*10 nm at 3 kV (SE)Extended vacuum mode (ESEM)3.0 nm at 30 kV (SE)*optional200 V - 30 kVup to 2 μA, continuously adjusted6 to 1000000x284 mm size left to right

QEMSCAN 650F巖芯、巖屑自動定量分析系統

QEMSCAN 650F巖芯、巖屑自動定量分析系統

  • 品牌: 美國FEI
  • 型號: QEMSCAN 650F
  • 產地:美國
  • 供應商:北京源海威科技有限公司

    一、設備介紹QEMSCAN巖芯、巖屑分析系統是一個高速自動化的礦物參數自動定量分析系統。能對樣品進行礦物物質組成、巖石特征、成份定量、礦物嵌布特征、礦物粒級分布、礦物解離度等重要參數進行自動定量分析,主要用于石油、礦業、冶金、地質等領域。QEMSCAN系統在石油領域的應用包括:1)鉆芯、鉆削礦物組成、巖石類型分析2)鉆井數據集累3)石油、天然氣勘探4)石油、天然氣資源、藏量評估5)生產井位置選擇6)卡鉆事故預防QEMSCAN巖芯、巖屑分析系統采用FEI公司Quanta 650F 場發射環境掃描電鏡作作為最主要的硬件平臺。Quanta 650F 場發射環境掃描電鏡利用電子束激發樣品產生的二次電子、背散射電子以及X射線等信號,以獲得樣品表面形貌,結合能譜儀等分析儀器可以對微區成分進行檢測,是用于試樣的顯微形貌觀察及微區成分分析的必備手段,除氣體以外的試樣均可用掃描電鏡進行觀察。在石油天然氣領域,Quanta 650F適用于觀察非常規油氣樣品的微納米孔隙結構、大小、類型、微裂縫發育等;用于研究微納孔隙及縫隙上附著的水、油或瀝青,對巖石孔隙的含水飽和度及含油飽和度等進行研究二、QUANTA 650F多用途掃描電鏡主要參數1、電子光學1)高分辨率肖特基場發射電子槍2)加速電壓: 200 V - 30 kV3)束流: 最大200 nA并連續可調4)放大倍數: 6 x 1,000,000 x (四幅圖像顯示)2、分辨率1)30 kV下 3.0 nm(背散射探頭)2)30 kV下 1.0 nm(二次電子探頭)3)3 kV下 3.0 nm(二次電子探頭)3、檢測器1)高靈敏度、低電壓固體背散射探頭2)二次電子探頭3)樣品室紅外 CCD 相機4、真空系統1)樣品室真空度 (高真空模式) < 6e-4 Pa2)樣品室真空度(低真空模式) < 10 to 130 Pa3)樣品室真空度(環境真空模式) < 10 to 4000 Pa5、樣品室1)左右內徑 379mm2)10 mm 分析工作距離3)10個 探測器 / 附件接口4)EDS 采集角: 35°6、樣品臺1)X/Y = 150 mm2)Z = 65 mm3)Z向間隙 93.5mm4)傾斜:- 5° - + 70°5)連續旋轉 360°6)復精度: 2 μm (X/Y 方向)7)偽全對中樣品臺7、SEM 計算機Windows 7操作系統8、能譜儀1)雙硅漂移探頭2)超快速脈沖處理3)電制冷 (無需液氮)

庫賽姆(COXEM)EM-30超高分辨率臺式掃描電鏡

庫賽姆(COXEM)EM-30超高分辨率臺式掃描電鏡

  • 品牌: 韓國庫賽姆
  • 型號: EM-30
  • 產地:韓國
  • 供應商:北京天耀科技有限公司

    品牌:COXEM型號:EM-30制造商:韓國COXEM公司經銷商:庫賽姆中國免費咨詢電話:400-101-5477售后服務電話:400-101-5466 產品簡介:EM-30高分辨率臺式(桌面式)掃描電鏡打破了傳統臺式掃描電鏡采用BSD探測器成像的局限性,利用創新的 雙聚光鏡成像技術,采用大型掃描電鏡成像原理,使用二次電子探測器作為基礎成像單元,從而可以獲得更高的分辨率(<8nm),是真正意義上的高分辨率臺式掃描電鏡。技術特點: 1. 分辨率:業內最高的分辨率(<8nm),展現最真實、最豐富的組織細節2.加速電壓:1-30kv, 滿足不同條件下的分析需求3.放大倍數:x 20 - x 100,000 4.標配二次電子探測器,可選配能譜儀以及背散射電子探測器5.與傳統鎢燈絲相同的三級匯聚式電子光學系統6.樣品臺:自動樣品臺,操控靈活7 .最佳性價比技術指標:外形尺寸400(寬)x 600(長) x 550(高)mm,100kg分辨率[email protected] SE放大范圍x 20 - x 100,000加速電壓1kV 30kV (1/3/5/10./15/20. /30.kV)電子槍發叉式鎢絲陰極探測器探測器首選 SE , BSE/EDS可選樣品臺X: 35mm (馬達驅動), Y: 35mm (馬達驅動),T: 0- 45°(馬達驅動), R: 360°,Z: 0-50.mm樣品尺寸45mm(高),60mm(直徑)圖像模式(像素)RED選區(320x240),TV(640x480),Slow(800x600)Photo(1280x960,2560x1920,5120.x3840)幀頻RED (Max. 3D frames/sec). 1v(Max. 10 frames/sec) ,Slow(Max. 2 frames/sec)真空系統渦輪分子泵真空系統自動功能啟動,聚焦,燈絲,亮度/對比度操作系統Windows 7操作方式鍵盤/鼠標

日立臺式電鏡 TM4000/TM4000Plus

日立臺式電鏡 TM4000/TM4000Plus

  • 品牌: 日立
  • 型號: TM4000/TM4000Plus
  • 產地:日本
  • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

    產品簡介日立臺式電鏡 TM4000/TM4000Plus主要參數:1. 觀察條件:5kV/10kV/15kV(均四檔可調)、EDX2. 放大倍率:10×~100000×3. 觀察模式:導體(TM4000Plus)、標準模式,消除電荷模式4. 探測器:4分割背散射探測器、低真空二次電子探測器            (TM4000Plus)應用領域:生命科學材料科學化學電子制造食品工業

日立新型鎢燈絲掃描電鏡 FlexSEM1000 II

日立新型鎢燈絲掃描電鏡 FlexSEM1000 II

日立超大樣品倉鎢燈絲掃描電鏡 S-3700N

日立超大樣品倉鎢燈絲掃描電鏡 S-3700N

  • 品牌: 日立
  • 型號: S-3700N
  • 產地:日本
  • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

    - 在觀察110mm高樣品時可進行能譜分析 -樣品室設置多種接口,可安裝EDS、WDS、EBSD和CL等多種分析用附件 -高低真空一鍵切換,無需手動安裝壓差光闌

日立新型冷場發射掃描電鏡 Regulus8200系列

日立新型冷場發射掃描電鏡 Regulus8200系列

日立高分辨冷場發射掃描電鏡 Regulus8100

日立高分辨冷場發射掃描電鏡 Regulus8100

  • 品牌: 日立
  • 型號: Regulus8100
  • 產地:日本
  • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

    1. 配備加速電壓減速功能,優秀的低加速電壓成像能力,1kV分辨率可達0.8nm 2. 日立專利E×B技術,無需噴鍍,可直接觀測不導電樣品

日立最新熱場掃描電鏡 SU7000

日立最新熱場掃描電鏡 SU7000

  • 品牌: 日立
  • 型號: SU7000
  • 產地:日本
  • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

    在相同WD的條件下,可同時實現二次電子、背散射電子觀察與X射線分析 最多可同時實現6通道檢測與顯示 可配置18個附件接口

日立高分辨鎢燈絲掃描電鏡 SU3800

日立高分辨鎢燈絲掃描電鏡 SU3800

  • 品牌: 日立
  • 型號: SU3800
  • 產地:日本
  • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

    HexBias偏壓鎢燈絲電子槍; 優異的高、低電壓性能; 高靈敏度五分割背散射電子探測器; 可變壓力二次電子探測器(高、低真空可用)。

日立全新大型鎢燈絲掃描電鏡 SU3900

日立全新大型鎢燈絲掃描電鏡 SU3900

日立臺式電鏡TM4000/TM4000Plus

日立臺式電鏡TM4000/TM4000Plus

  • 品牌: 日立
  • 型號: TM4000/TM4000Plus
  • 產地:日本
  • 供應商:上海西努光學科技有限公司

    日立TM4000掃描電鏡獨特的低真空系統使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。TM4000優化提供5kV、10kV、15kV三種不同電壓下的觀察模式,每種模式下電流4檔可調,并配備4分割背散射探測器,可采集四個不同方向的圖像信息,對樣品進行多種模式成像。具有全新的SEM-MAP導航功能,同時,電鏡圖片可以報告形式導出。配備大型樣品倉,可容納最大樣品直徑80mm,厚度50mm。TM4000Plus是在TM4000基礎上增加高靈敏度低真空二次電子探頭UVD,該探頭在低真空環境下具有很好的成像質量。TM4000Plus可將二次電子圖像和背散射電子圖像疊加并實時進行顯示,獲得最多的樣品信息。可選配附件豐富,擁有諸多附加功能。主要參數:1. 觀察條件:5kV/10kV/15kV(均四檔可調)、EDX2. 放大倍率:10×~100000×3. 觀察模式:導體(TM4000Plus)、標準模式,消除電荷模式4. 探測器:4分割背散射探測器、低真空二次電子探測器(TM4000Plus)應用領域:生命科學、材料科學、化學、電子制造、食品工業

FlexSEM 1000鎢燈絲掃描電鏡

FlexSEM 1000鎢燈絲掃描電鏡

  • 品牌: 日立
  • 型號: FlexSEM 1000
  • 產地:日本
  • 供應商:上海西努光學科技有限公司

    FlexSEM1000是日立高新公司最新推出的一款機型小巧性能優異的鎢燈絲電鏡,擁有大束流和低球差的物鏡和聚光鏡設計,配備了高分辨率二次電子探頭及高靈敏度五分割背散射探頭,具有卓越的低真空成像能量,并且采用最新的SEM MAP高精度導航系統及最新最全的自動化功能,使性能更加優越,使用更加簡便。特點1.節能環保的設計2.高效率的自動功能3.簡捷的操作界面4.高分辨低真空觀察

Regulus8100冷場發射掃描電鏡

Regulus8100冷場發射掃描電鏡

  • 品牌: 日立
  • 型號: Regulus8100
  • 產地:日本
  • 供應商:上海西努光學科技有限公司

    主要特點:1. 配備加速電壓減速功能,優秀的低加速電壓成像能力,1kV分辨率可達1.1nm2. 日立專利E×B技術,無需噴鍍,可直接觀測不導電樣品3. 配備電子槍內置加熱器,物鏡光闌具有自清潔功能4. SE與BSE任意比例搭配功能應用領域:1. 納米材料2. 半導體器件3. 高分子材料4. 生物醫學5. 新能源

IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini

IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini

  • 品牌: 日立
  • 型號: MSP-2S/MSP-Mini
  • 產地:日本
  • 供應商:上海西努光學科技有限公司

    IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini利用磁控電極在低電壓下對樣品濺射金屬靶材,為SEM樣品表面噴鍍金屬鍍層,方便電鏡觀察,而MSP-mini是一款體積小巧,操作簡便,無需通入特殊氣體,使用時只需設置噴鍍時間即可。主要特點:1. 陽極磁控型靶材水平裝入:極低的放電電壓減弱樣品受到的例子損傷和熱損傷;2. 浮動樣品臺設計:使電流不通過樣品,溫度上升很少,同時減弱離子碰撞引起的損傷;3. 操作簡便:通過定時器控制從真空排氣到啟動放電電壓的整個過程。 應用領域:離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

IXRF噴碳儀VC-100

IXRF噴碳儀VC-100

  • 品牌: 日立
  • 型號: VC-100
  • 產地:日本
  • 供應商:上海西努光學科技有限公司

    IXRF噴碳儀VC-100是專為電鏡設計的噴鍍儀器,可以替代傳統的真空蒸鍍裝置。主要特點:1.用普通的自動筆芯就可作為蒸鍍碳的原材料;2.每次使用一根鉛筆芯,操作簡單,重現性好;3.可用于碳強化或制作支持膜,可以制作碳復型膜;4.可在自動鉛筆芯纏繞Pt線做Pt/C的蒸鍍或直接向SEM樣品蒸鍍Pt。 應用領域:1.對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析;2.對樣品進行蒸鍍Pt/C或直接蒸鍍Pt等金屬;3.用于TEM樣品的陰影;4.做TEM表面復型樣品。

MC1000離子濺射儀

MC1000離子濺射儀

  • 品牌: 日立
  • 型號: MC1000
  • 產地:日本
  • 供應商:上海西努光學科技有限公司

    日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術公司自行設計制造,針對掃描電鏡的精細高端需求而設計,適合微觀結構較復雜的樣品,尤其適合于場發射掃描電鏡的高倍率觀測應用。主要特點:1. 操作方便且有記憶功能,首創LCD觸摸屏控制技術,可存儲五種處理方案;2. 通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡,從而使鍍層更均勻;3. 通過選配測量單元可實現1nm至30nm的鍍層厚度控制。 應用領域:離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

ArBlade5000離子研磨儀

ArBlade5000離子研磨儀

  • 品牌: 日立
  • 型號: ArBlade5000
  • 產地:日本
  • 供應商:上海西努光學科技有限公司

    ArBlade5000是專門針對快速或大面積加工而設計的離子研磨儀,它保留了IM4000系列的平面和截面研磨功能,同時對加工速率有了很大提升。ArBlade5000的截面加工速率達到1mm/h,截面加工寬度最大可達8mm,可以滿足更大范圍的加工需求。主要特點:1. 專業的平面和截面加工2. 全新設計的氬離子槍3. 大面積、高精度、低損傷加工

IM4000Plus離子研磨儀

IM4000Plus離子研磨儀

  • 品牌: 日立
  • 型號: IM4000Plus
  • 產地:日本
  • 供應商:上海西努光學科技有限公司

    日立IM4000Plus離子研磨儀利用氬離子對樣品即可以進行平面研磨,也可以進行截面切割,是對樣品進行無應力加工的理想工具,不會產生傳統的切割或機械拋光帶來的變形錯位、機械應力或劃痕污染等對樣品的形貌觀察和結構分析帶來的不利影響,通過制冷功能可以對受熱易損傷的樣品進行加工。主要特點:1. 即可進行截面切割,也可進行平面研磨2. 加工效率更高,截面約500μm/h3. 程序控制間歇式加工4. 通過制冷功能可以對受熱易損傷的樣品進行加工 應用領域:1. LED、PCB等半導體行業2. 頁巖氣3. 高分子材料案例圖:1、樣品:彩色打印用紙截面(多層結構)放大倍率:1萬倍           刀片切割方式制樣                                                           IM4000 plus離子研磨截面切割2、樣品:鋰電池隔膜截面    放大倍率:2萬倍            沒使用制冷研磨                                                                         使用制冷研磨3、樣品:金線焊接處截面           放大倍率:1萬倍             機械拋光處理后                                                             IM4000 plus離子研磨平面處理

日立高分辨型雙束系統 NX5000

日立高分辨型雙束系統 NX5000

  • 品牌: 日立
  • 型號: NX5000
  • 產地:日本
  • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

    產品簡介日立高分辨型雙束系統 NX5000NX5000新型高分辨FIB-SEM雙束系統采用冷場發射電子槍和全新的Aquila α鏡筒,具有高分辨的觀察能力;同時大束流的離子槍和實時觀察功能使其具有超高的加工效率。獨特的第三束(Ar)加工可以避免樣品損傷,為超薄樣品和復雜的制備提供了新的解決方案,可以滿足納米材料、半導體材料、生物材料等多種樣品的快速、無損、精細加工。主要特點:1.      高分辨冷場發射電子槍,實現高分辨觀察([email protected])2.      全新的Aquila α鏡筒和多探測器實現不同觀察目的3.      大束流(100nA)、高穩定性離子槍實現快速加工4.      實時觀察、多探針系統和7軸樣品臺等技術有效防止窗簾效應5.      第三束Ar的引入實現無損和超薄樣品的加工6.      多種沉積氣體可選7.      全自動TEM樣品制備 應用領域:納米材料微加工半導體及電子元器件加工生命科學

SU3900鎢燈絲掃描電鏡

SU3900鎢燈絲掃描電鏡

  • 品牌: 日立
  • 型號: SU3900
  • 產地:日本
  • 供應商:上海西努光學科技有限公司

    日立全新一代大型鎢燈絲掃描電鏡SU3900采用超大的樣品倉和多接口設計,適合超大樣品的觀察(直徑300mm)以及多種分析功能的拓展。同時,SU3900也采用了全新的HexBias偏壓技術,也可以配置高靈敏度的背散射探測器和可變壓力二次電子探測器,使其高、低電壓性能都得到了提升。SU3900也具有IFT燈絲監控技術、全新的光鏡導航、集成的能譜以及報告導出等功能,使其操作也變得更得非常簡單。主要特點:HexBias偏壓鎢燈絲電子槍;  超大樣品倉和多接口實際;優異的高、低電壓性能; 高靈敏度五分割背散射電子探測器; 可變壓力二次電子探測器(高、低真空可用); 全新的操作界面和光鏡導航功能; 全自動燈絲設定和合軸; 報告導出和圖片處理; 可集成的EDS; 簡單方便的維護(燈絲更換視頻);應用領域: 材料科學、 生命醫學、 食品衛生、 半導體電子元器件、 汽車制造、 文物考古、 金屬冶金等。主要參數:?電子槍預對中鎢燈絲加速電壓0.3kV – 30kV分辨率[email protected] (SE)[email protected] (SE)[email protected] (BSE, LV)放大倍率5x – 300,000x(底片倍率)7x – 800,000x(顯示器倍率)探測器二次電子探測器,高靈敏度無分割背散射電子探測器可變壓力探測器UVD 2.0*低真空可變壓力范圍6 – 650Pa樣品臺(三軸馬達)X: 0 - 150 mmY: 0 – 150 mmZ: 5 – 85 mmR: 0 – 360°T: -20° - +90°*選配 

掃描電鏡 SEM JSM-6510掃描電子顯微鏡

掃描電鏡 SEM JSM-6510掃描電子顯微鏡

  • 品牌: 日本電子
  • 型號: JSM-6510
  • 產地:日本
  • 供應商:深圳市瑞盛科技有限公司

    JSM-6510掃描電子顯微鏡 不是所有的JEOL產品能在所有的國家使用。產品性能及詳情請聯系地區 JEOL 辦事處或銷售商。謝謝。 JSM-6510A/ JSM-6510LA分析型掃描電子顯微鏡,與日本電子公司的元素分析儀(EDS),統合于一體。結構緊湊的EDS由顯微鏡主體系統的電腦控制,操作員只用一只鼠標,就可完成從圖像觀測到元素分析的整個過程。 操作窗口 直觀的操作界面的設計,簡明易懂便于迅速掌握操作。 支持多用戶 單個用戶可以根據常用功能設置相應的圖標,營造快捷的操作環境。用戶登錄時,即可加載已注冊過的設定。 同時顯示兩幅圖像 畫面上并列顯示二次電子成像和背散射電子成像這兩種實時圖像。可同時觀察樣品的形貌和組成分布。 微細結構測量 適合于多種測量功能。可在觀察圖像上直接進行測量。也可將測量結果貼至SEM圖像,保存在文件中。 標準的全對中樣品臺,能收錄三維照片 3D Sight(選配件),能夠進行平面測量和高度測量,實現立體俯視圖。 從圖像觀察到元素分析,配合連貫一條龍 分析型掃描電子顯微鏡配備兩臺監視器,一臺用于SEM圖像觀察和另一臺用于元素分析(EDS)。一只通用鼠標即可同時控制兩臺監視器。大尺寸畫面使操作更加簡便與舒適。 維護簡便 工廠預置中心燈絲,十分便于更換。因此,可長期保持穩定的高性能。此外,操作界面還能以映像形式顯示燈絲維護的步驟說明。 可信賴的真空系統 真空系統使用高性能的擴散泵保證了潔凈的高真空狀態。擴散泵內部無活動部件,體現了操作穩定,維護簡便的特色。 JSM-6510規格 保證分辨率 3.0nm(30kV) 8.0nm(3kV) 15nm(1kV) 放大倍數 5至300,000x 加速電壓 0.5kV至30kV 電子槍 工廠預對中燈絲 聚光鏡 變焦聚光鏡 物鏡 錐形物鏡 樣品臺 全對中樣品臺 X-Y 80mm-40mm Z 5mm至48mm 旋轉 360° 傾斜 -10°至+90° 排氣系統 (高真空模式) DPx1,RPx1 排氣系統 (低真空模式) DPx1,RPx2

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